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ICP干法刻蝕設備
產品概述： Plasma-Therm是致力于RIE/ICP的世界知名設備提供商， 產品涵蓋2”~ 8”主流ICP干法刻蝕工藝。銷售聯系方式：李安芃 18918393270。
產品描述：

Plasma-Therm是致力于RIE/ICP的世界知名設備提供商， 產品涵蓋2”~ 8”主流ICP干法刻蝕工藝，廣泛應用于三五族(GaAs / SiC )、GaN功率及射頻器件、VCSELs器件等化合物產業，以及MEMS和Si基半導體產業。

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儀器簡介：

1.配置：2”~8” 手動 / 半自動 / 全自動(片盒對片盒) /全自動多腔(片盒對片盒)

2.領域 :三五族(GaAs / SiC)，GaN功率及射頻器件、VCSELs的器件等化合物產業及MEMS和Si基半導體產業等

3.制程 : RIE / ICP

儀器特點：

1.刻蝕速率可調

2.低損傷控制

3.側壁的角度和粗糙度控制技術

4.較佳的刻蝕均勻性控制

5.較佳的批次均勻性控制

6.超長的平均開腔清潔時間間隔以及精準靈敏的刻蝕斷點監測技術

應用領域：

1.三五族化合物半導體(GaAs / SiC，GaN功率及射頻器件，InP器件，InSb銻化物器件)

2.MEMS微機電

3.濾波器器件

4.石英基底的光通訊器件

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