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科研型刻蝕和薄膜沉積設備R&D ICP & PECVD
產品概述： Corial是Plasma-Therm旗下的子公司，提供適合科研和小批量生產的等離子體刻蝕和薄膜沉積設備，擁有創新團隊和40年的專業積累。銷售聯系方式：朱鵬菲 18017837286。
產品描述：

Corial Shuttleline?200系列是一個靈活且可擴展的平臺，適用于蝕刻和沉積工藝，大可處理8英寸晶圓，廣泛應用于故障分析、微機電 （MEMS）、光電子、較先進封裝、無線設備和功率半導體等領域。

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刻蝕設備簡介：

1.典型刻蝕材料：硅，氧化物，聚合物，III-V族化合物，II-VI族化合物，金屬，硬質材料等

2.應用領域 ：故障分析、微機電 （MEMS）、光電子、較先進封裝、無線設備和功率半導體等

3.制程：RIE/ICP

儀器特點：

1. 靈活可拓展的刻蝕工藝平臺，占地面積小

2. 獨立的RF和ICP發生器同時提供高刻蝕速率和低損傷控制

3. 側壁粗糙度佳，底角干凈，圖形角度控制較好

4. 較佳的刻蝕均勻性控制

5. 超長的平均開腔清潔時間間隔

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薄膜沉積設備簡介：

1.典型沉積材料：硅基化合物，如SiO2, Si3N4, SiOCH, SiOF, Si-H等。硬質材料如SiC等。

2.應用領域 : 微機電 （MEMS）、光電子、集成光學元件、無線設備和功率半導體等

3.制程：PECVD/ICPCVD

儀器特點：

1.獨特的反應腔設計提供出色的沉積速率和均勻性，如SiO2典型沉積速率可達520 nm/min。

2. 獨特的應力控制方法（低損傷應力控制）

3. 超長的平均開腔清潔時間間隔

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